Ионно-коллоидное наслаивание

Ионно-коллоидное наслаивание — один из методов послойного синтеза на поверхности подложки слоев с использованием в качестве реагентов коллоидных частиц из коллоидных растворов и катионов (анионов) из растворов солей. Впервые такие реакции осуществил Айлер Р., который изучил условия последовательной и многократной адсорбции на поверхности силикатного стекла положительно заряженных катионов Al₂(OH)₅⁺ и отрицательно заряженных наночастиц из коллоидного раствора SiO₂. Наибольшее применение метод ИКН нашел в нанотехнологии при синтезе мультислоев с участием растворов полиэлектролитов в катионной или анионной формах и коллоидных растворов углеродных нанотрубок или графена, а также благородных металлов или оксидов, сульфидов и селенидов ряда металлов, например, CdS, CdSe, ZnS, PbS, TiO₂, ZrO₂, SiO₂ и Fe₃O₄.

Литература

• Айлер Р. Химия кремнезема. Т. 1 и 2, Пер. с англ. Москва: Мир, 1982, 416 с.
• Multilayer Thin Films. (Eds G. Decher, J.B. Schlenoff). Wiley-VCH, N-Y., 2003.