Нанопечатная литография

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к: навигация, поиск
Схема нанопечатной литографии (остатки резиста на вдавленных участках анизотропно вытравливаются):
1) подложка,
2) резист,
3) штамп.

Нанопечатная литография (англ. nanoimprint lithography) — технология, предназначенная для переноса изображения наноструктуры или электронной схемы на подложку с покрытием и включающая деформацию покрытия штампом с последующим травлением деформированного покрытия и формированием на подложке наноструктуры или элементов электронной схемы.

Описание[править | править вики-текст]

В нанопечатной литографии изображение образуется за счёт механической деформации полимерного покрытия (резиста) пресс-формой (штампом), а не путем изменения химической структуры покрытия с помощью облучения, как в литографии с экспонированием. Исключение из технологического процесса облучения резиста через маску упрощает производство. С помощью нанопечатной литографии можно получать наноструктуры размером менее 10 нм на достаточно больших площадях, что недоступно для всех других методов литографии.

См. также[править | править вики-текст]

Литература[править | править вики-текст]

  • Гусев А. И.: Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. — М., Наука-Физматлит, 2007. —416 с.
  • Кобаяси Н.: Введение в нанотехнологию. — М.: Бином, 2007. —134 с.

Ссылки[править | править вики-текст]