ASML

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к: навигация, поиск
ASML Holding N.V.
Тип

публичная (Euronext: ASML, NASDAQ: ASML

Год основания

1984

Расположение

Veldhoven, Нидерланды

Ключевые фигуры

Eric Meurice (CEO), Peter Wennink (CFO), Arthur van der Poel (Chairman of the supervisory board)

Отрасль

Микроэлектронная промышленность

Продукция

фотолитографическая техника для микроэлектронной промышленности

Оборот

€ 1.596 млрд (2009)[1]

Операционная прибыль

(€165.0 млн) (2009)[1]

Чистая прибыль

(€150.9 млн) (2009)[1]

Число сотрудников

7,685 (FTE, 2009)[1]

Сайт

www.asml.com

ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель фотолитографических систем для микроэлектронной промышленности. Компания производит оборудование для изготовления СБИС, таких как чипы памяти RAM, флеш-память, микропроцессоры.

Продукция[править | править вики-текст]

Корпоративное здание ASML в Veldhoven

Фотолитографические установки ASML используются в производстве интегральных микросхем. В таких установках происходит процесс оптического проецирование специальных частично прозрачных шаблонов (масок) на поверхность полупроводниковой пластины, покрытую тонкой пленкой светочувствительного материала (фоторезиста). Для каждой пластины эта процедура повторяется несколько десятков раз. После каждого проецирования происходит обработка пластины с нанесенным фоторезистом, в процессе которой формируются электронные структуры микросхем. Оптический метод, применяемый в установках ASML, используется в настоящее время для производства практически всех интегральных схем.

Лидирующим поставщиком устройств для литографии ASML стала в 2002 году[2]. На 2007 год, ASML имеет долю рынка продаж фотолитографического оборудования в 65 % (во всем мире)[3]. Компания тесно сотрудничает с немецкой фирмой Цейс (Zeiss), которая является её основным поставщиком оптики. Конкурентами компании являются Canon и Nikon. На 2008 год, установка ASML высшего класса Twinscan XT:1950 может использоваться с техпроцессами вплоть до 38нм[4] со скоростью до 131 пластины в час. В установке используется иммерсионная литография с водяной прослойкой и аргон-фторидный (argon-fluoride, ArF) эксимерный лазер с длиной волны 193 нм. На тот же момент, в среднем, литографическая установка стоила 22 млн евро.[4] В 2009 году, ASML разрабатывала установки с лазерами на 13.5 нм (EUVL). 22 Апреля 2009, бельгийский исследовательский центр Imec представил работоспособные чипы КМОП SRAM выполненные по техпроцессу 22 нм на прототипе установки ASML с EUVL.[5]


Компания[править | править вики-текст]

ASML центральный офис компании находится в Veldhoven, Нидерланды. Там же находятся исследовательские и производственные подразделения. Клиенты ASML находятся в различных странах, компания имеет более 60 пунктов обслуживания в 16 странах. Акции компании торгуются на AEX и NASDAQ под названием ASML.

Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography[6] была основана в 1984 как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. В настоящее время только небольшая часть акций принадлежит Philips.[7]

Российские пользователи[править | править вики-текст]

В России использование степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике Ангстрем-Т[8]

Среди пользователей ASML также можно отметить НИИСИ, который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250С.[9][10]

Установки ASML используются на передовой линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе Микрон (PAS 5500/750F 248nm/0.7 120 пластин в час и PAS/1150C 193nm/0.75 135 пластин в час[11])

Примечания[править | править вики-текст]

  1. 1 2 3 4 Annual Report 2009. ASML. Проверено 5 апреля 2010. Архивировано из первоисточника 4 июля 2012.
  2. Chris Mack. Milestones in Optical Lithography Tool Suppliers 12 (2005). — «ASML (4)»  Проверено 3 декабря 2013.
  3. ASML Press release 2007 quarter 4 "ASML increased global market share measured in net sales to 65 percent in 2007"
  4. 1 2 Press release 2008 quarter 3
  5. IMEC presents functional 22nm SRAM cells fabricated using EUV technology. IMEC press release, 22 April 2009.
  6. About ASML: Questions and Answers. ASML Holding. Проверено 3 августа 2010. Архивировано из первоисточника 4 июля 2012.
  7. ASML corporate history
  8. Проект “Ангстрем­-Т”: первая российская smart-foundry. // Электроника НТБ 2008: "Мы предполагаем работать на уровне 0,11–0,13 мкм. Это возможно, поскольку именно таково технологическое разрешение степперов (литографов) компании ASML."
  9. http://nanotech.iu4.bmstu.ru/learning_program/magistr/doc/primer.doc "На технологической линии НИИСИ РАН используется проекционная литографическая установка PAS5500/250C фирмы ASML "
  10. http://www.nano-systems.ru/library/_publications/lithography_abstract.pdf "с использованием установки пошаговой мультипликации ASML PAS 5500/250С"... "ТП фотолитографии на фабрике НИИСИ РАН."
  11. Микроэлектронная индустрия в России (2012) / Хабрахабр

Ссылки[править | править вики-текст]

  • asml.com — официальный сайт ASML