Модель поверхности Si(111)7×7

Атомарно-чистая поверхность Si(111)7×7. СТМ-изображения (а) заполненных и незаполненных (б) электронных состояний поверхности; в — схематическое изображение поверхности (вид сверху и вид сбоку) в соответствии с DAS-моделью (dimer-adatom-stacking fault) Такаянаги. Желтыми кружками показаны адатомы Si, красными — димеризованные атомы Si, голубыми — рест-атомы Si второго слоя. Ромбом обведена элементарная ячейка 7×7. Половина элементарной ячейки, содержащая дефект упаковки, помечена как FH (faulted half); половина без дефекта упаковки помечена как UH (unfaulted half). Видно, что на СТМ-изображении заполненных состояний (а) половина ячейки с дефектом упаковки выглядит более яркой. Максимумы на СТМ-изображении соответствуют адатомам.

Модель поверхности Si(111)7×7 (англ. DAS model) — модель димеров-адатомов и дефекта упаковки.

Описание

Модель предложена Кунио Такаянаги в 1985 году для описания реконструкции атомарно чистой поверхности Si(111)7×7. Элементарная ячейка реконструкции 7×7 состоит из угловой ямки и двух треугольных подъячеек, которые разделяются димерными рядами; каждая подъячейка содержит по 6 адсорбированных на поверхности кристаллов еще не встроенных в кристаллическую решётку атомов (адатомов); атомный слой ниже слоя адатомов в одной из подъячеек находится в ориентации дефекта упаковки. Правильность этой модели была подтверждена результатами последующих многочисленных исследований.

Литература

• Takayanagi Kunio, Tanishiro Yasumasa, Takahashi Shigeki, Takahashi Masaetsu. Structure analysis of Si(111)-7 × 7 reconstructed surface by transmission electron diffraction // Surface Science. — 1985. — Декабрь (т. 164, № 2-3). — С. 367—392. — ISSN 0039-6028. — doi:10.1016/0039-6028(85)90753-8.

Ссылки

При написании этой статьи использовался материал из распространяющейся по лицензии Creative Commons BY-SA 3.0 Unported статьи:
Зотов А. В., Саранин А. А. модель поверхности Si(111)7×7 // Словарь нанотехнологических терминов.