Mapper Lithography

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к: навигация, поиск
Mapper Lithography
Основание 2000
Основатели Pieter Kruit, Bert Jan Kampherbeek, Marco Wieland
Расположение Делфт, Нидерланды
Ключевые фигуры Bert Jan Kampherbeek (CEO), Marco Wieland (CTO), Guido de Boer (COO)
Отрасль Оборудование для производства микроэлектроники
Продукция Безмасочная электроннолучевая литография
Число сотрудников 200 (2012)
Сайт mapperlithography.com

Mapper Lithography — нидерландская компания, разрабатывающая установки безмасочной (англ.) многолучевой электронной литографии для полупроводниковой индустрии.

Mapper расположена в Делфт, вблизи Делфтского технического университета (TU Delft), являющегося одним из акционеров компании.

Технология[править | править код]

Традиционная фотолитография для производства полупроводниковых пластин использует набор масок, изображение с которых проецируется специальными установками — степперами на покрытую фоторезистом полупроводниковую пластину. Установки электроннолучевой литографии способны создавать аналогичные структуры на пластинах без использования масок (англ.)[1]. В них используются тысячи параллельных электронных пучков (модель Matrix 1.1 — около 1,3 тысяч, Matrix 10.10 — 13,3 тысячи). Один пучок от мощного источника (5 кэВ) расщепляется на множество пучков, которые затем управляются с помощью электростатических линз, выполненных по технологии MEMS[2].

Способ управления лучом напоминает работу электронно-лучевых трубок в ЭЛТ-дисплеях или осциллографах.

С 2009 года Mapper Lithography совместно с институтом CEA-Leti (Гренобль) продвигают многолучевую безмасочную электронную литографию в рамках совместного проекта IMAGINE[3].

Экспериментальная установка Mapper Lithography (Pre-alpha, 110 лучей по 5 кэВ, 2х2 мкм2 на луч[4]) тестировалась в TSMC в 2008 году[2]. Разрешение составляло около 45 нм, с возможным обновлением до 32 нм в следующих литографах[2]. После повышения количества пучков до 13 тысяч возможно достижение производительности в 10 пластин диаметром 300 мм в час[2].

Для получения адекватных при массовом производстве скоростей литографии предлагается создание кластерного литографа с общей производительностью в 100 пластин в час. В составе кластера будет устанавливаться десять модулей[2][5].

Среди технологических проблем: требуется чрезвычайно интенсивный источник электронов (около 107 A/m2Sr2V), передача маски на управляющую MEMS матрицу должна происходить с высочайшими скоростями (общая — до 10 ТБайт/с, каждый канал около 7,5 Гбит/с)[2]

Инвестиции от Роснано[править | править код]

23 августа 2012 года Роснано объявило об инвестировании 40 миллионов евро в Mapper Lithograpy[6][7]. Используя еще 40 миллионов евро, привлеченные тогда же из других источников, компания Mapper сможет построить новый завод по сборке литографов в Делфте. Его производительность составит до 20 установок в год.

Также планировалось открыть в России (в Санкт-Петербурге[8]) производство одной из ключевых частей литографов — электронно-оптической системы на базе технологии MEMS.

В июле 2014 года в Москве на территории технополиса «Москва» был открыт завод по производству одного из наиболее наукоемких и центральных компонентов безмасочных литографов — элементов электронной оптики на основе МЭМС (микроэлектромеханических систем)[9]. В 2014 году начато производство спейсеров, в октябре 2014 были выпущены первые кремниевые электронные линзы, в 2015 году расширен ассортимент выпускаемых кремниевых линз и начата отладка технологического процесса по производству элементов с управляющими электродами.

См. также[править | править код]

  • ASML — крупнейший производитель классических литографов
  • Другие потенциальные поставщики установок многолучевой электронной литографии:[10]
    • IMS Nanofabrication AG (Vienna, Austria)
    • KLA-Tencor Corp. (Milpitas, California) — технология Reflective Electron Beam Lithography (REBL)

Примечания[править | править код]

  1. Peter Clarke. Russia backs e-beam lithography firm (англ.), EETimes (8/28/2012). Проверено 10 января 2014.
  2. 1 2 3 4 5 6 Readiness of Multiple E-Beam Maskless Lithography (MEB ML2) //23 Oct 2009, 6th International Symposium on Immersion Lithography Extensions
  3. Synopsys Joins CEA-Leti’s IMAGINE Program on Maskless Lithography // CEA-Leti, 19/09/2011: «IMAGINE. CEA-Leti and MAPPER Lithography launched the program in July 2009 with the delivery of MAPPER’s Massively Parallel Electron Beam Platform to Leti.»
  4. http://www.ispd.cc/slides/ISPD12Slides/ISPD12_Keynote.pdf#page=45
  5. ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ КОМПЛЕКСЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СИСТЕМ БЕСШАБЛОННОЙ ЛИТОГРАФИИ // журнал «Интеграл» № 3 (71) 2013, стр 80
  6. РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм // Пресс-релиз Роснано, 23 августа 2012
  7. Роман Дорохов. «Роснано» инвестирует 40 млн евро в нидерландскую компанию Mapper Lithography, разрабатывающую новую технологию производства микросхем. Часть производства будет размещена в России, Vedomosti.ru (23.08.2012). Проверено 10 января 2014.
  8. Sergey Kalyuzhnyi. Cross-region investment EU-RUSSIA: RUSNANO experience (англ.), Rosnano, euronano forum 2013 (Dublin) (18-20 Jun 2013). Проверено 10 января 2014. «St. Petersburg 1. «Mapper» 2013».
  9. Портфельная компания РОСНАНО Mapper Lithography приступила к производству ключевых элементов литографического оборудования нового поколения, Роснано (03 июля 2014). Проверено 2 августа 2014.
  10. Peter Clarke. TSMC set to receive Matrix 13,000 e-beam litho machine (англ.), EETimes (2/17/2012). Проверено 10 января 2014.

Ссылки[править | править код]