Файл:OpcedPhotomask.png
Перейти к навигации
Перейти к поиску
Размер этого предпросмотра: 600 × 599 пкс. Другие разрешения: 240 × 240 пкс | 480 × 480 пкс | 769 × 768 пкс | 1025 × 1024 пкс | 2079 × 2077 пкс.
Исходный файл (2079 × 2077 пкс, размер файла: 40 Кб, MIME-тип: image/png)
История файла
Нажмите на дату/время, чтобы посмотреть файл, который был загружен в тот момент.
Дата/время | Миниатюра | Размеры | Участник | Примечание | |
---|---|---|---|---|---|
текущий | 18:50, 11 февраля 2011 | 2079 × 2077 (40 Кб) | LithoGuy | {{Information |Description ={{en|1=A realistic photomask. It is obtained by taking a polygon layout we desire to have on the wafer, adding to it assist features, and applying en:optical proximity correction.}} |Source ={{own}} |Author |
Использование файла
Нет страниц, использующих этот файл.
Глобальное использование файла
Данный файл используется в следующих вики:
- Использование в en.wikipedia.org
- Использование в kk.wikipedia.org
- Использование в uk.wikipedia.org