Перейти на страницу файла на Викискладе

Файл:4 inch float zone n-type silicon wafer with amorphous silicon thin film heterojunction structure.png

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к навигации Перейти к поиску

Исходный файл(562 × 601 пкс, размер файла: 313 КБ, MIME-тип: image/png)

Краткое описание

Описание
English: A scientist holding a 4 inch diameter n-type float-zone silicon wafer that has been through PECVD to coat a thin film (tens of nanometres) of amorphous silicon onto it. This creates a passivation layer such as what is used in silicon heterojunction solar cells. Typically, high quality amorphous layers in a SHJ solar cell would be on the order of less than 10 nm. However the thin film is thicker for this research cell due to technical limitations (50–200 nm). This research cell was used to research how high temperatures affect the passivation layer of heterojunction solar cells.
Дата
Источник Собственная работа
Автор Radiotrefoil
Местоположение камеры33° 55′ 04,26″ ю. ш., 151° 13′ 37,38″ в. д. Kartographer map based on OpenStreetMap.Это и другие изображения по их местоположению на OpenStreetMapinfo

Лицензирование

Я, владелец авторских прав на это произведение, добровольно публикую его на условиях следующей лицензии:
w:ru:Creative Commons
атрибуция распространение на тех же условиях
Этот файл доступен по лицензии Creative Commons Attribution-Share Alike 4.0 International
Вы можете свободно:
  • делиться произведением – копировать, распространять и передавать данное произведение
  • создавать производные – переделывать данное произведение
При соблюдении следующих условий:
  • атрибуция – Вы должны указать авторство, предоставить ссылку на лицензию и указать, внёс ли автор какие-либо изменения. Это можно сделать любым разумным способом, но не создавая впечатление, что лицензиат поддерживает вас или использование вами данного произведения.
  • распространение на тех же условиях – Если вы изменяете, преобразуете или создаёте иное произведение на основе данного, то обязаны использовать лицензию исходного произведения или лицензию, совместимую с исходной.

Краткие подписи

Добавьте однострочное описание того, что собой представляет этот файл
A 4 inch diameter float zone silicon wafer that has been through PECVD to coat a thin film of amourphous silicon on it. This creates a passivation layer such as what is used in heterojunction solar cells.

Элементы, изображённые на этом файле

изображённый объект

silicon wafer английский

Heterojunction solar cell английский

float-zone silicon английский

У этого свойства есть некоторое значение без элемента в

33°55'4.26"S, 151°13'37.38"E

image/png

История файла

Нажмите на дату/время, чтобы посмотреть файл, который был загружен в тот момент.

Дата/времяМиниатюраРазмерыУчастникПримечание
текущий02:27, 24 октября 2023Миниатюра для версии от 02:27, 24 октября 2023562 × 601 (313 КБ)RadiotrefoilUploaded own work with UploadWizard

Нет страниц, использующих этот файл.

Глобальное использование файла

Данный файл используется в следующих вики:

Метаданные