Перейти на страницу файла на Викискладе

Файл:Black silicon on micro-pillars.jpg

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к навигации Перейти к поиску

Исходный файл(1024 × 943 пкс, размер файла: 673 КБ, MIME-тип: image/jpeg)

Краткое описание

Описание
English: Inductively Coupled Plasma - Deep Reactive Ion Etching (ICP-DRIE) of micro-pillars in silicon. If the wrong parameters are used, black silicon (also called grass) is created.
Дата
Источник Собственная работа
Автор Mgerlt

Лицензирование

Я, владелец авторских прав на это произведение, добровольно публикую его на условиях следующей лицензии:
w:ru:Creative Commons
атрибуция
Этот файл доступен по лицензии Creative Commons Attribution 4.0 International
Вы можете свободно:
  • делиться произведением – копировать, распространять и передавать данное произведение
  • создавать производные – переделывать данное произведение
При соблюдении следующих условий:
  • атрибуция – Вы должны указать авторство, предоставить ссылку на лицензию и указать, внёс ли автор какие-либо изменения. Это можно сделать любым разумным способом, но не создавая впечатление, что лицензиат поддерживает вас или использование вами данного произведения.


Краткие подписи

Добавьте однострочное описание того, что собой представляет этот файл
Unwanted residues of dry etching

У этого свойства есть некоторое значение без элемента в

image/jpeg

689 132 байт

943 пиксель

1024 пиксель

История файла

Нажмите на дату/время, чтобы посмотреть файл, который был загружен в тот момент.

Дата/времяМиниатюраРазмерыУчастникПримечание
текущий14:41, 13 декабря 2019Миниатюра для версии от 14:41, 13 декабря 20191024 × 943 (673 КБ)MgerltUser created page with UploadWizard

Нет страниц, использующих этот файл.

Метаданные