НИИМЭ и Микрон

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к: навигация, поиск
НИИМЭ и Микрон
Тип

ОАО

Год основания

1964

Расположение

Флаг России Зеленоград, Россия

Ключевые фигуры

Красников Геннадий Яковлевич (генеральный директор)

Отрасль

Электроника

Продукция

Интегральные схемы

Число сотрудников

1806 (2012)[1]

Материнская компания

НПО «Научный центр» (до начала 1990-х),
ОАО «Ситроникс» (1997—2013), ОАО «РТИ» (с 2013 года)

Сайт

http://www.mikron.ru/

ОАО «НИИМЭ и Микрон» — российская компания, один из крупнейших производителей интегральных схем в Восточной Европе.

История[править | править вики-текст]

Основана 9 марта 1964 года как НИИ молекулярной электроники (НИИМЭ), при котором 1 февраля 1967 года был создан завод «Микрон». Первым директором НИИМЭ 25 января 1965 года был назначен Камиль Ахметович Валиев.

Завод «Микрон» (вместе с зеленоградским заводом «Ангстрем» и минским объединением «Интеграл») являлся основным производителем интегральных схем в СССР.

В 1994 году НИИМЭ и завод «Микрон» были акционированы как единая компания, которая в 1997 году вошла в состав концерна «Научный Центр» (переименованный в 2005 году в концерн «Ситроникс»).

В июле 2006 года концерн «Ситроникс» подписал соглашение с франко-итальянской компанией STMicroelectronics (STM) о передаче технологий производства микросхем с топологическим размером 180 нанометров. Производство налажено в одном из цехов завода «Микрон». Заявленная проектная мощность предприятия — 18 тыс. 200-мм пластин в год. Инвестиции концерна в проект составили 200 млн долларов.

12 декабря 2007 года предприятием было объявлено о начале производства микросхем с топологическим размером 180 нанометров. Чипы, изготовленные на «Микроне», планировалось применять в транспортных картах (в том числе в Московском метрополитене), паспортах, платёжных картах, SIM-картах, RFID-метках и др.[2]

В 2009 совместно с ГК Роснано начат проект по созданию производства СБИС с проектными нормами 90 нм на пластинах диаметром 200 мм. Технология производства будет передана компанией STM. Сроки начала производства микросхем — 2010—2011 года.[3] Запланированная мощность производства — 3000 пластин в месяц[4].

В начале 2011 года американское издание Fast Company, специализирующееся на теме инноваций, составило рейтинг ведущих инновационных компаний России. В этом рейтинге компания «НИИМЭ и Микрон» заняла 8-е место[5].

Летом 2011 года исследовательский центр ОАО «НИИМЭ и Микрон» был выделен в отдельную дочернюю компанию ОАО «НИИМЭ», при этом головная компания сохранила свою название.

В феврале 2012 года на предприятии состоялся физический пуск производства на 90-нанометровой линии[6][7].

В декабре 2013 года «НИИМЭ и Микрон» завершил разработку собственной технологии создания интегральных схем по топологии 65 нанометров и объявил о планах начать серийное производство в 2014 году[8].

В сентябре 2013 года компания «НИИМЭ и Микрон» в результате реорганизации концерна «Ситроникс» была переподчинена холдингу «РТИ».

Дочерние предприятия[править | править вики-текст]

  • ОАО «НИИМЭ» (НИИ молекулярной электроники) — выделено в отдельную компания в 2011 году
  • ОАО «НИИТМ» (НИИ точного машиностроения) — основано в 1962 году
  • ООО «Ситроникс-Нано» — основано в 2009 году совместно с Государственной корпорацией «Роснано»
  • ООО «Ситроникс Микродизайн»
  • ООО «Ситроникс Смарт Технологии»

Известные сотрудники[править | править вики-текст]

Примечания[править | править вики-текст]

Ссылки[править | править вики-текст]

Координаты: 56°00′47″ с. ш. 37°11′31″ в. д. / 56.013194° с. ш. 37.192083° в. д. / 56.013194; 37.192083 (G) (O)