PVD-процесс
Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы (англ. physical vapour deposition; сокращённо PVD) обозначает группу методов напыления покрытий (тонких плёнок) в ваккуме, при которых покрытие получается путём прямой конденсации пара наносимого материала.
Различают следующие стадии PVD-процесса:
- Создание газа (пара) из частиц, составляющих напыление
- Транспорт пара к субстрату
- Конденсация пара на субстрате и формирование покрытия
[править] Введение
К группе PVD-методов относятся перечисленные ниже технологии также как реактивные варианты этих процессов.
- Методы испарения
- Термическое испарение
- Испарение электронным лучом (англ. electron beam evaporation)
- Испарение лазерным лучом (англ. pulsed laser deposition, pulsed laser ablation): Атомы и ионы испаряются кротким интенсивным лазерным импульсом.
- Испарение электрической дугой (англ. arc evaporation, Arc-PVD): Атомы и ионы освобождаются из исходного состояния материала в результате воздействия сильного тока, текущего в электрическом разряде между двумя электродами (как в молнии), и переходят в газовую фазу.
- Эпитаксия молекулярным лучом (англ. molecular beam epitaxy)
- Распыление (англ. sputtering): Исходный материал распыляется бомбардировкой ионным потоком и переходит в газовую фазу.
- Напыление с поддержкой ионным лучом (англ. ion beam assisted deposition, IBAD)
- Имплантация ионов
[править] Применение
PVD-процесс применяют для создания на поверхности деталей, инструментов и оборудования функциональных покрытий – износостойких, коррозионно-стойких, антифрикционных, антизадирных и т.д. Материалами для напыления служат диски из титана, алюминия, вольфрама, хрома и их сплавов; ацетилен (для покрытий, содержащих углерод); азот. С помощью PVD-процесса получают покрытия толщиной до 4 мкм, обычно после нанесения покрытия поверхность не требует дополнительной обработки.
[править] См.также
 |
Для улучшения этой статьи желательно?:
|
