Источники плазмы

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к: навигация, поиск

Исто́чники пла́змы - устройства, предназначенные для создания плазмы. Создание плазмы требует по меньшей мере частичной ионизации нейтральных атомов и/или молекул среды. В технике, как правило, для создания плазмы используются те или иные виды газового разряда.

Плазмотрон высокого давления

Источники плазмы высокого (от 1000 Па до атмосферного и, редко, выше) давления называют плазмотронами или плазменными горелками. В них, как правило, плазма образуется в специальной разрядной камере, сквозь которую продувается плазмообразующий газ. Наиболее часто используются дуговой или индукционный разряд. Для небольших мощностей (до нескольких кВт) распространены также СВЧ плазмотроны.

Высокочастотный источник плазмы при низком давлении (менее 1 Па)

Источники плазмы для низких давлений не имеют общего названия и классифицируются по принципу действия:

Источники плазмы имеют множество применений, в частности источники света и плазменная обработка материалов.

См. также[править | править вики-текст]

Литература[править | править вики-текст]

  • Popov O.A. High Density Plasma Sources: Design, Physics and Performance. — Mill Road, Park Ridge, New Jersey, USA: Noyes Publications, 1995.
  • Габович М. Д. Плазменные источники ионов. — Киев: Наукова думка, 1964. — 224 с.
  • Жуков М.Ф. Электродуговые нагреватели газа (плазмотроны). — М.: Наука, 1973. — 232 с.
  • Барченко В.Т. Технологические вакуумно-дуговые источники плазмы. — СПб.: Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2013. — 242 с. — ISBN 978-5-7629-1366-9.
  • Аксенов И. И. Вакуумная дуга: источники плазмы, осаждение покрытий, поверхностное модифицирование.. — Киев: Наукова думка, 2012. — 727 с.