ASML

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к навигации Перейти к поиску
ASML Holding N.V.
Изображение логотипа
ASML headquarters Veldhoven.jpg
Тип публичная (Euronext: ASML, NASDAQ: ASML
Листинг на бирже NASDAQ: ASML[2] и ASML
Основание 1984
Основатели ASM International[d] и Philips
Расположение Велдховен, Нидерланды
Ключевые фигуры Peter Wennink (CEO), Wolfgang Nickl (CFO), Arthur van der Poel (Chairman of the supervisory board)
Отрасль Микроэлектронная промышленность
Продукция фотолитографическая техника для микроэлектронной промышленности
Оборот € 9,053 млрд (2017)
Операционная прибыль €4,077 млрд (2017)
Чистая прибыль €2,153 млрд (2017)
Капитализация 350 млрд $ (осень 2021 года)
Число сотрудников > 30 000 [1]
Сайт www.asml.com
Логотип Викисклада Медиафайлы на Викискладе

ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров.

Центральный офис — в Велдховене, там же находятся исследовательские и производственные подразделения, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Акции компании торгуются на AEX и NASDAQ под тикером ASML.

Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography[3], была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI)[en] и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML[4]. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100[5].

Основной поставщик — германский производитель оптики Zeiss. Ключевые конкуренты — Canon и Nikon.

Продукция[править | править код]

Корпоративное здание ASML в Велдховене

Литографические установки ASML используются в производстве интегральных микросхем. В таких установках происходит процесс оптического проецирования специальных частично прозрачных шаблонов (масок) на поверхность полупроводниковой пластины, покрытую тонкой плёнкой светочувствительного материала (фоторезиста). Для каждой пластины эта процедура повторяется несколько десятков раз. После каждого проецирования происходит обработка пластины с нанесённым фоторезистом, в процессе которой формируются электронные структуры микросхем. Оптический метод, применяемый в установках ASML, стал использоваться для производства практически всех интегральных схем.

Ведущим поставщиком устройств для литографии ASML стала в 2002 году[6]. На 2007 год, ASML имеет долю рынка продаж фотолитографического оборудования в 65 % (во всем мире)[7].

На 2008 год установка ASML высшего класса Twinscan XT:1950 могла использоваться с техпроцессами вплоть до 38 нм[8] со скоростью до 131 пластины в час. В установке используется иммерсионная литография с водяной прослойкой и аргон-фторидный (argon-fluoride, ArF) эксимерный лазер с длиной волны 193 нм. На тот же момент литографическая установка в среднем стоила €22 млн[8].

В 2009 году ASML разрабатывает установки с лазерами на 13,5 нм (EUVL). 22 апреля 2009 бельгийский исследовательский центр Imec представил работоспособные чипы КМОП SRAM выполненные по техпроцессу 22 нм на прототипе установки ASML с EUVL[9].

Основные серии литографов ASML[10]:

  • 1984: PAS 2000, разрешение до 1 мкм, точность позиционирования до 250 нм
  • 1989: PAS 5000, разрешение около 0,5 мкм, точность до 100 нм
  • 1990-е: PAS 5500, разрешение 400—90 нм, точность до 100—12 нм
  • 2000-е: семейство TWINSCAN (NX, NXT), разрешение 100—38 нм, точность до 20—2 нм
  • 2010-е: экспериментальные EUV системы TWINSCAN NXE, разрешение 38—19 нм, точность лучше 3 нм

Российские пользователи[править | править код]

В России использование степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике Ангстрем-Т[11].

Также среди российских пользователей ASML — НИИСИ, который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250С[12][13].

Установки ASML используются на передовой линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе «Микрон» (PAS 5500/750F 248 nm/0.7 — 120 пластин в час и PAS/1150C 193 nm/0.75 — 135 пластин в час).

В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведётся разработка отечественного литографа на рентгеновском источнике излучения.[14]

Примечания[править | править код]

  1. how-asml-grew-to-30-thousand-during-pandemic Архивная копия от 2 января 2022 на Wayback Machine // asml.com, 2021
  2. ASML Holding N.V. // Polygon.io
  3. About ASML: Our History. ASML Holding. Дата обращения: 18 июня 2020. Архивировано 7 июля 2020 года.
  4. ASML corporate history. Дата обращения: 12 ноября 2010. Архивировано из оригинала 1 августа 2009 года.
  5. Quotes For NASDAQ-100 Index (англ.). www.nasdaq.com. Дата обращения: 25 июля 2020. Архивировано 25 апреля 2021 года.
  6. Chris Mack. Milestones in Optical Lithography Tool Suppliers 12 (2005). — «ASML (4)». Дата обращения: 3 декабря 2013. Архивировано 14 мая 2014 года.
  7. ASML Press release 2007 quarter 4 Архивная копия от 7 июля 2011 на Wayback Machine «ASML increased global market share measured in net sales to 65 percent in 2007»
  8. 1 2 Press release 2008 quarter 3. Дата обращения: 12 ноября 2010. Архивировано из оригинала 7 июля 2011 года.
  9. IMEC presents functional 22nm SRAM cells fabricated using EUV technology Архивная копия от 25 апреля 2009 на Wayback Machine. IMEC press release, 22 April 2009.
  10. Архивированная копия. Дата обращения: 6 сентября 2014. Архивировано 6 сентября 2014 года.
  11. Проект «Ангстрем-Т»: первая российская smart-foundry Архивная копия от 27 мая 2011 на Wayback Machine — Электроника НТБ 2008: «Мы предполагаем работать на уровне 0,11-0,13 мкм. Это возможно, поскольку именно таково технологическое разрешение степперов (литографов) компании ASML.» // electronics.ru
  12. http://nanotech.iu4.bmstu.ru/learning_program/magistr/doc/primer.doc (недоступная ссылка) "На технологической линии НИИСИ РАН используется проекционная литографическая установка PAS5500/250C фирмы ASML "
  13. Архивированная копия. Дата обращения: 12 ноября 2010. Архивировано из оригинала 6 сентября 2014 года. «с использованием установки пошаговой мультипликации ASML PAS 5500/250С»… «ТП фотолитографии на фабрике НИИСИ РАН.»
  14. У истоков российских сверхточных современных литографов — ТЕХНОСФЕРА РОССИЯ

Ссылки[править | править код]

  • asml.com — официальный сайт ASML